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「ケイ光板」の部分一致の例文検索結果

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また、上部基320の外側には上部偏22が形成されている。

而且,在上基板 320的外部形成有上偏振片 22。 - 中国語 特許翻訳例文集

図18の実施形態は、空間変調器の方に方向付けられたの偏状態を交互にするように機能する一方、の50%以上がビームバンプ69で損失される。

尽管图 18的实施例用于交替引导到空间光调制器的光的偏振状态,但 50%以上的光是损失到光束收集器 69。 - 中国語 特許翻訳例文集

照明コンバイナ43においては、レーザ44bは、線形偏状態、即ち、共通の偏軸を生成するように結合される一方、1/2波長64と連動するレーザ44aは、レーザ44bのと直交している線形偏状態のを生成する。

在照明组合器 43中,激光器 44b经组合以产生线性偏振状态,即共同偏振轴,而激光器 44a结合 1/2波板 64形成具有正交于 44b的偏振状态的线性偏振状态的光。 - 中国語 特許翻訳例文集

拡散67は、例えば、アクリル樹脂で形成されており、拡散67のLの出射面には、導部材65の出射面65Aから入射したLを拡散させる凹凸(回折パターン)が主走査方向に沿って形成されている。

扩散板 67例如由丙烯酸类树脂形成,并且在扩散板 67的光 L从其出射的面中形成凹凸部(衍射图案 ),该凹凸部使从光导构件的光出射面 65A入射在该凹凸部上的光扩散。 - 中国語 特許翻訳例文集

【図6】シャッター入射側偏のコントラストとフリッカとの関係を表した図である。

图 6是示出了快门入射侧偏振片的对比度与闪烁的关系的图。 - 中国語 特許翻訳例文集

他の実施形態では、出力基340のためのアクティブ・バックプレーンは、入力基350とは別の基上に形成されてよい。

在其它的实施例中,针对光输出基板 340的有源底板可以在与光输入基板 350分离的基板上形成。 - 中国語 特許翻訳例文集

即ち、Taを偏の透過軸における透過率(0≦Ta≦100)、Tbを偏の吸収軸の透過率(0≦Tb≦100)として、TP=(Ta2+Tb2)/2、TC=Ta×Tbと定義すると、偏のコントラストCRと偏度Vとの間には、以下の式(1),(2)のような関係が成り立つ。

如以下公式 1和 2所示的关系存在于偏振片的对比度 CR与偏振度 v之间,其中偏振片的透射轴的透过率是 Ta(0≤ Ta≤ 100),偏振片的吸收轴的透射率是Tb(0≤ Tb≤ 100),并且作出以下定义: TP= (Ta2+Tb2)/2并且 TC= Ta*Tb。 - 中国語 特許翻訳例文集

この実施形態は図13に示され、ビームバンプ69に予め供給されたを回復するように回転シャッタ65を用いる.照明コンバイナ45において、この経路における以前のは、1/2波長64により変換された偏状態を有する。

此实施例显示于图 13中且使用旋转快门 65来恢复先前递送到光束收集器 69的CN 10202774672 AA 说 明 书 12/14页光。 在照明组合器 45中,之前在此路径中的光使其偏振状态由 1/2波板 64转换。 - 中国語 特許翻訳例文集

本実施形態では、消去用源36から発散される特定波長IRをラインイメージセンサ35による読取範囲Sに集し、量を高めて消色時間を短くするために、その集機能を備えた反射37を設けている。

在本实施方式中,为了将从消除用光源 36发散的特定波长光 IR向行图像传感器 35的读取范围S聚光,并提高光量而缩短脱色时间,设置了具有该聚光功能的反射板 37。 - 中国語 特許翻訳例文集

照射部59の回路基59Aには、ねじ孔82に対応して複数(本実施形態では、4つ)の貫通孔83が形成されている。

在光照部件 59的电路板 59A中,形成有与螺纹孔 82对应的多个 (在本示例性实施方式中为四个 )通孔 83。 - 中国語 特許翻訳例文集


本実施の形態では、そのシャッター入射側偏60Aが、シャッター出射側偏60Bよりも低コントラスト(低偏度)となるように設定されている。

在这种实施例中,快门入射侧偏振片 60A被设置为使其具有比快门出射侧偏振片60B更低的对比度 (更低的偏振度 )。 - 中国語 特許翻訳例文集

そこで、本実施の形態では、シャッター眼鏡6において、シャッター入射側偏60AのコントラストCR(偏度)をシャッター出射側偏60BのコントラストCR(偏度)よりも低くなるように設定している。

因此,在本实施例中,在快门眼镜 6中,将快门入射侧偏振片 60A的对比度 CR(偏振度 )设置为比快门出射侧偏振片 60B的对比度 CR(偏振度 )更低的值。 - 中国語 特許翻訳例文集

一方、副走査方向で読み取り位置X0から反射79側では、反射79が第1ホルダー51の端部51Cよりも軸LTに近い配置となっているが、反射79の取り付け位置については、拡散67から出射されたLBの反射状態に基づいて設定されるため、軸LTから反射79までの距離が12mm以内であってもよい。

在读取位置 X0在慢扫描方向上的反射板 79侧,反射板 79被放置成比第一保持件51的端部 51C更靠近光轴 LT,但是由于反射板 79的安装位置基于从扩散板 67出射的光 LB的反射状态设定,因而从光轴 LT至反射板 79的距离也可在 12mm以内。 - 中国語 特許翻訳例文集

部材65は、主走査方向に沿って長尺に形成されると共に、主走査方向の両端部が側55A、55Bで支持されている。

导光构件65在快扫描方向上形成为细长,并且导光构件65的快扫描方向的两端部由侧板55A、55B支撑。 - 中国語 特許翻訳例文集

【図9】シャッター入射側偏のコントラストとクロストークとの関係を表した図である。

图 9是示出了快门入射侧偏振片的对比度与串扰之间的关系的图。 - 中国語 特許翻訳例文集

1.実施の形態(立体映像表示システムにおいてシャッター入射側偏を低偏度とした例)

1.实施例 (立体视频显示系统中的快门入射侧偏振片具有低偏振度的示例 ) - 中国語 特許翻訳例文集

図3では、出力基340は、表示画素を形成する通常の液晶材料又は通常のLEDのアレイを含む。

在图 3中,光输出基板 340包括传统的形成显示像素的液晶材料或传统的 LED阵列。 - 中国語 特許翻訳例文集

以上のようにして、画像表示装置100から出力された映像のと、蛍灯などの発体から出力された外は、互いに異なる偏状態となり、表示画像鑑賞用メガネ200の表面に設置される−1/4波長202に入射する。

以此方式,从图像显示设备 100输出的视频图像的光和从诸如荧光灯的外部发光体输出的光具有彼此不同的偏振状态,并且进入提供在显示图像观看眼镜 200的表面上的 -1/4波长板 202。 - 中国語 特許翻訳例文集

図14においては、この回復された偏を用いるが、必要な構成要素は少なくて済む代替の実施形態を示している.図14に示すミラー71は、1/2波長64を有するプリズム72と置き換えられる。

图 14显示使用此经恢复的偏振光但需要较少组件的替代实施例。 图 14中所示的镜 71由具有半波板 64的棱镜 72取代。 - 中国語 特許翻訳例文集

一方、蛍灯を含む各種発体からの外については、ランダム偏として出力され、表示画像鑑賞用メガネ200の−1/4波長202へ入射する。

另一方面,来自包括荧光灯的各种发光体的光被输出为随机偏振光,并且进入显示图像观看眼镜 200的 -1/4波长板 202。 - 中国語 特許翻訳例文集

図6は、図5におけるシャッター開口Dutyが12.5%の場合のシャッター入射側偏60AのコントラストCRと、照明の明暗比との関係を示したものである。

图 6示出了在图 5中的快门开口比率是 12.5%的情况下,快门入射侧偏振片 60A的对比度 CR与所发出的光的 LD比之间的关系。 - 中国語 特許翻訳例文集

3. 前記結合器と前記波長の間にあり、前記第1分岐を、2つの異なる偏に分離する偏波分離手段と、をさらに備え、前記波長は、両偏路上にそれぞれ設けられ、それぞれの学軸方位が互いに異なる請求項2記載の遅延干渉計。

3.根据权利要求 2所述的延迟干涉仪,所述延迟干涉仪还包括: 偏振分离器,其位于所述耦合器和所述波长板之间,以将所述第一分支光分为具有不同偏振的两道偏振光束,并且所述波长板分别位于所述两道偏振光束的路径上,并且具有彼此不同的光轴方向。 - 中国語 特許翻訳例文集

透過型液晶表示パネルの上部ガラス基と下部ガラス基それぞれには偏が附着され、液晶のプレチルト角(pre-tilt angle)を設定するための配向膜が形成される。

偏振板分别附着到背光型液晶显示面板的上玻璃基板和下玻璃基板,并且用于设置液晶的预倾角的取向层分别形成在上玻璃基板和下玻璃基板上。 - 中国語 特許翻訳例文集

以上説明したように本実施の形態におけるデジタルスチルカメラ1は、シャッタ14を閉じてレンズ群13から進入するを遮断した状態で、源53がを照射すると、遮55がの一部が遮るので、イメージセンサ19の結像面に遮55の像が投影される。

如上所述,对于本实施方式的数码相机 1,在关闭快门 14、隔断从透镜组 13进入的光的状态下,如果光源 53照射光,遮光板 55就会遮蔽一部分光,所以,遮光板 55的影像会投影到图像传感器 19的成像面上。 - 中国語 特許翻訳例文集

つまり、液晶表示パネル300の下部面には下部偏12が形成され、その上には下部基である薄膜トランジスタ基310が形成され、これに対向する位置には上部基320が形成され、上部基320と薄膜トランジスタ基310との間には液晶層330が位置している。

也就是说,在显示面板 300的下表面形成有下偏振片 12,在下偏振片上形成有作为下基板的薄膜晶体管基板 310,形成有面向薄膜晶体管基板的上基板 320,并且,在上基板 320和薄膜晶体管基板 310之间形成有液晶层 330。 - 中国語 特許翻訳例文集

基準反射31および基準反射32は、照明学系により導かれた照明が照射される位置であって撮像部40の視野の一部に設けられる。

参考反射镜 31和参考反射镜 32设置在被用于照射光的光学系统所引导的照明光照射、并且位于摄像单元 40的视场的一部分内的位置处。 - 中国語 特許翻訳例文集

照明組立体100は、電子要素110の2次元行列の形状の放射源を有し、それは基102の上に配置され、そして放射を基に垂直な方向に放射する。

组件 100包括二维光电元件 110矩阵形式的辐射源,所述光电元件布置在衬底 102上并以垂直于该衬底的方向发射射线。 - 中国語 特許翻訳例文集

最後にリプリケーション(S10)として、スタンパを用いたディスク基の制作や、ディスク基上への所定の層構造形成を行い、完成品としてディスク(BD−ROM)を得る。

最后,作为复制 (S10),利用压模来制造盘基板,并且将预定层结构形成在盘基板上,由此获得作为成品的光盘 (BD-ROM)。 - 中国語 特許翻訳例文集

センサ基10は誘電体基の表面に直線的に形成された多数の受部(電変換部)を含み受部を駆動するシフトレジスタ、ラッチ回路及びスイッチなどの駆動回路部からなる。

传感器基板 10包括多个在介质基板表面形成为直线形的受光部 (光电转换部 ),由驱动受光部的移位寄存器、锁存电路及开关等驱动电路部构成。 - 中国語 特許翻訳例文集

まず、シリコン基105の所定の位置にイオンを打ち込み、電変換部104を作製し、図示しない配線等を形成した後、裏面側からCMPやエッチバックなどにより、基を薄膜化する(図7(a))。

首先,离子被注入到由硅形成的基板 105的预定位置以形成光电转换单元 104。 在形成布线等 (未示出 )之后,从后侧通过 CMP或回蚀刻 (etch back)等将基板制成薄膜 (图7A)。 - 中国語 特許翻訳例文集

以上のように、本実施の形態では、シャッター眼鏡6において、シャッター入射側偏60AのコントラストCRがシャッター出射側偏60BのコントラストCRよりも低くなるようにしたので、観察映像においてフリッカの発生を抑制しつつクロストークを低減することが可能となる。

如上所述,在本实施例中,在快门眼镜 6中,快门入射侧偏振片 60A的对比度 CR被设置为比快门出射侧偏振片 60B的对比度 CR更低的值。 因此,在所观察到的视频中,在抑制闪烁产生的同时,能够减小串扰。 - 中国語 特許翻訳例文集

反射79は、主走査方向に沿って延びる鏡面体であり、Lの反射面とは反対側の面が第2上壁53(図4参照)の傾斜面53Aに固定されている。

反射板 79为沿着快扫描方向延伸的镜面体,并且反射板 79的位于反射光 L的表面的相反侧的表面固定至第二上壁 53的倾斜面 53A(参见图 4)。 - 中国語 特許翻訳例文集

本実施形態では、VoIPアダプタ124からの出力信号は、一例として、ブロードバンドルータ125及び回線終端装置126を介して、回線網127のIPネットワークに対して送信される。

在本实施例中,例如,将来自VoIP适配器 124的输出信号经由宽带路由器 125和线路终止设备 126发送到光线路网络127的 IP网络上。 - 中国語 特許翻訳例文集

代替の実施形態では、主リンクおよびバックアップリンクは両方とも、k個の保護された路の第k番目の障害の場合に解放される。

在备用的实施方式中,受 k重保护的光路的第 k项故障发生时,主链路和备用链路二者均被释放。 - 中国語 特許翻訳例文集

図9は、上記のような回転時(20°)におけるシャッター入射側偏60AのコントラストCRとクロストークとの関係を表したものである。

图 9示出了处于如上所述的旋转状态 (20度 )中的快门入射侧偏振片 60A的对比度 CR与串扰之间的关系。 - 中国語 特許翻訳例文集

照明モジュール32はレーザダイオードのような1行の端部放出型電子要素70を有し、それはシリコンウェハのような基72上に形成される。

模块 32包括一行边缘发射光电元件 70,诸如激光二极管,它们形成在衬底 72诸如硅晶片上。 - 中国語 特許翻訳例文集

図4は、がレンズ基310のマイクロ・レンズのアレイによってどのようにキャプチャされることが可能であるかの一例示的実施形態の側面図を例示する。

图 4示出了通过透镜基板 310的微透镜阵列如何捕获光的实施例的侧视图。 - 中国語 特許翻訳例文集

本変形例に係る構成では、消去用源36による照射を読取範囲Sに合わせ込む必要がなく、消去用源36や反射37に高い取り付け精度が求められないので組み立てが容易になる。

在本变形例的结构中,没必要将消除用光源 36的照射光对准读取范围 S,由于不对消除用光源 36和反射板 37要求高的安装精度,所以容易组合。 - 中国語 特許翻訳例文集

本実施形態では、LED源210は、通常の原稿又は白基準の1ライン分の読み取りを行う場合には、赤色LED、緑色LED、青色LEDの順にを発生する。

在本实施方式中,LED光源 210在进行通常的原稿或白基准板的 1线读取时,以红色 LED、绿色 LED、蓝色 LED的顺序产生光。 - 中国語 特許翻訳例文集

また、電素子パッケージ101の四辺中央で固定103を接着することにより、パッケージ101をバランスよく固定することができ、仮固定後の変形を抑制することができる。

当固定板 103被粘合在封装 101的四个边中央时,能够以良好平衡的方式固定封装 101并且能够抑制临时固定之后的变形。 - 中国語 特許翻訳例文集

105は、撮像する波長帯域で吸収を有する材料、例えばSiであり、イオン打ち込みなどで電変換部104を内部に形成する。

基板 105由吸收成像中的波长带中的光的材料例如 Si形成,并且包括通过离子注入等形成在其中的光电转换单元 104。 - 中国語 特許翻訳例文集

図9に示す張り出し無線装置520の送受信制御部521は、各ファイバ511a,511bに対応させて、電気/変換部531a,531b、インタフェース部531a,531b、フォーマット変換部533a,533bをそれぞれ配置し、これらの信号伝送系511a,511bに対して、ベースバンド処理部534及びクロック回路535並びに制御部536を共通化し、2以上の信号伝送系511a,511bと共通化したクロック回路535との間にスイッチ537を配置している。

电光转换部件 531a、531b、接口部件 532a、532b、和格式转换部件 533a、533b被布置给光纤 511a、511b中的每个; 基带处理部件 534、时钟电路 535和控制部件 536被共用于信号发送系统 511a、511b; - 中国語 特許翻訳例文集

可動ミラー121aが撮像学系の路内に進入しているとき、交換レンズ200に含まれる学系から入力された学的信号の一部は、焦点125及びプリズム126を介して接眼レンズ136に入射される。

当可动反射镜 121a进入摄影光学系统的光路内时,从包含于更换镜头 200中的光学系统输入的光学信号的一部分经焦点板 125及棱镜 126入射到目镜 136。 - 中国語 特許翻訳例文集

本変形例のような映像表示システムにおいても、シャッター眼鏡6において、上述したようなシャッター入射側偏60Aを低コントラストとすることにより、上記実施の形態と同様の効果を得ることができる。

在如该修改示例中的视频显示系统中,通过将快门眼镜 6中的前述快门入射侧偏振片 60A的对比度设置为较低,可以获得与上述实施例相类似的效果。 - 中国語 特許翻訳例文集

このような構成の第2読取り部63において、制御部106は、例えば画像形成装置10の起動に際し、原稿の読取りを行わない状態で、源91を点灯して、源91のを読取りガラス92を介して白基準96に入射させて、白基準96を照明し、CCD95により白基準96を主走査方向に(主走査ラインに沿って)読取らせる。

在这样构成的第 2读取单元 63中,控制单元 106例如在图像形成装置 10启动时,在未进行原稿的读取的状态下,点亮光源91,将光源91的光经由读取玻璃92入射到白基准板 96,对白基准板 96进行照明,通过 CCD95在主扫描方向上 (沿着主扫描线 )读取白基准板 96。 - 中国語 特許翻訳例文集

照射部59を第1キャリッジ18の側壁39に着脱可能に取り付けるためのブラケット57は、図4に示されるように、副走査方向に沿った断面が主走査方向の部分的に逆レ字状に形成されており、体である金から構成されている。

如图 4中所示,用于将光照部件 59可拆卸地安装至第一托架 18的侧壁 39的支架57沿慢扫描方向具有在快扫描方向上形成为局部倒L形状的剖面,并且支架57由板体的金属板构成。 - 中国語 特許翻訳例文集

センサ基10の受部は読み取り幅方向に延在して形成され、軸ラインに配置した緑色フィルタ列(G列)を中心に搬送方向両側に青色フィルタ列(B列)と赤色フィルタ列(R列)とを振り分けて配置されている。

传感器基板 10的受光部由在读取宽度方向上延伸形成,以配置在光轴线上的绿色滤色片列 (G列 )为中心,传送方向两侧分别配置有蓝色滤色片列 (B列 )和红色滤色片列 (R列 )。 - 中国語 特許翻訳例文集

第1実施の形態に係る固体撮像装置31は、第1導電型、例えばn型の半導体基32に第2導電型、例えばp型の半導体ウェル領域33が形成され,このp型半導体ウェル領域33に通常画素22と漏れ込み補正用画素24が図3の画素配列で配置されて成る。

第一实施例的固体摄像装置 31具有其中形成有第二导电型 (例如,p型 )半导体阱区域 33的第一导电型 (例如,n型 )半导体基板 72,并具有以图 3所示的像素布局图形布置在 p型半导体阱区域 33中的普通像素 22和漏光修正用像素 24。 - 中国語 特許翻訳例文集

第2実施の形態に係る固体撮像装置61は、第1導電型、例えばn型の半導体基32に第2導電型、例えばp型の半導体ウェル領域33が形成され,このp型半導体ウェル領域33に通常画素22と漏れ込み補正用画素24が図3の画素配列で配置されて成る。

第二实施例的固体摄像装置 61具有其中形成有第二导电型 (例如,p型 )半导体阱区域 33的第一导电型 (例如,n型 )半导体基板 72,并具有以图 3所示的像素布局图形布置在 p型半导体阱区域 33中的普通像素 22和漏光修正用像素 24。 - 中国語 特許翻訳例文集

第3実施の形態に係る固体撮像装置63は、第1導電型、例えばn型の半導体基32に第2導電型、例えばp型の半導体ウェル領域33が形成され,このp型半導体ウェル領域33に通常画素22と漏れ込み補正用画素24が図3の画素配列で配置されて成る。

第三实施例的固体摄像装置 63具有其中形成有第二导电型 (例如,p型 )半导体阱区域 33的第一导电型 (例如,n型 )半导体基板 72,并具有以图 3所示的像素布局图形布置在 p型半导体阱区域 33中的普通像素 22和漏光修正用像素 24。 - 中国語 特許翻訳例文集

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