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「拡散光」を含む例文一覧

該当件数 : 12



ここで、第1キャリッジ200では、読み取り位置X0に照射されたLが読取原稿Gで反射されて拡散光となる。

这里,在第一托架 200中,照射读取位置 X0的光 L被读取原稿 G反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集

ここで、第1キャリッジ210では、読み取り位置X0に照射されたLが読取原稿Gで反射されて拡散光となる。

这里,在第一托架 210中,照射读取位置 X0的光 L被读取原稿 G反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集

続いて、読取原稿Gの読み取り位置X0で反射され拡散光となったLのうち、軸LTに沿って進むLは、読取原稿Gの表面から第1ミラー75に向かい、第1ミラー75で反射される。

接着,在读取原稿 G的读取位置 X0处被反射并成为扩散光的光中,沿着光轴 LT传播的光 L从读取原稿 G的表面朝第一镜 75传播并被第一镜 75反射。 - 中国語 特許翻訳例文集

第1キャリッジ18では、前述のように、読取原稿Gで反射された拡散光のうち、軸LTに沿って第1ミラー75に向かったLが第1ミラー75で反射される。

在上述的第一托架 18中,在由读取原稿 G反射的漫射光之中,沿着光轴 LT朝第一镜 75传播的光 L被第一镜 75反射。 - 中国語 特許翻訳例文集

これにより、LEが読取原稿Gの被読取面GAに再び照射されることが抑えられ、読取原稿G上の画像からの反射拡散光)の強度の変動が小さくなる。

因而,抑制了读取原稿 G的待读取表面GA再次被光 LE照射的情形,从而从读取原稿 G上的图像反射的光 (漫射光 )的光强波动变小。 - 中国語 特許翻訳例文集

また、拡散板67から出射され反射板79で反射されたLFは、読取原稿Gの被読取面GAに照射されると共に、矢印X方向で読み取り位置X0から反射板79側にずれた反射位置X1で反射されて拡散光となる。

此外,读取原稿 G的待读取表面 GA被从扩散板 67出射并被反射板 79反射的光 LF照射,并且光 LF在沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝反射板 79侧偏移的反射位置 X1处被反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集

一方、導部材202から出射されると共に拡散板67で拡散され、読取原稿Gに直接向かうLの一部は、LGのように、矢印X方向で読み取り位置X0から導部材202側にずれた反射位置X2に向かうと共に、反射位置X2で反射されて拡散光となる。

从导光构件 202出射并被扩散板 67扩散而直接朝读取原稿 G传播的一部分光L(例如光 LG)传播至沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝导光构件 202侧偏移的反射位置 X2,并在反射位置 X2处被反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集

また、拡散板67から出射されて反射板79で反射されたLDは、読取原稿Gの被読取面GAに照射されると共に、矢印X方向で読み取り位置X0から反射板79側にずれた反射位置X1で反射されて拡散光となる。

此外,读取原稿 G的读取表面 GA被从扩散板 67出射并被反射板 79反射的光 LD照射,并且光 LD在沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝反射板 79侧偏移的反射位置 X1处被反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集

一方、導部材65から出射されると共に、拡散板67で拡散されて読取原稿Gに直接向かうLの一部は、LEのように、矢印X方向で読み取り位置X0から導部材65側にずれた反射位置X2で反射されて拡散光となる。

从导光构件 65出射并被扩散板 67扩散而直接朝读取原稿 G传播的一部分光 L(例如光 LE)在沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝导光构件 65偏移的反射位置 X2处被反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集

読取原稿Gに再び照射されたLGは、読取原稿G上の画像からの反射拡散光)の強度を変動させ、特に、画像の黒塗り部の周縁において、読取原稿Gの下地(白)からの反射の強度と画像(黒)からの反射の強度との差を低下させる。

再次照射读取原稿 G的光 LG致使从读取原稿 G上的图像反射的光 (漫射光 )的光强波动,尤其是在图像的黑色喷涂部分的边缘中致使从读取原稿 G的背景 (白色 )反射的光的光强与从图像 (黑色 )反射的光的光强之差下降。 - 中国語 特許翻訳例文集


一方、導部材65から出射されると共に拡散板67で拡散されて読取原稿Gに直接向かうLのうち、LG(図9(a)参照)の拡散角よりも大きい拡散角度で出射されたLHは、矢印X方向で反射位置X2(図9(a)参照)よりも軸LTから離れる側にずれた反射位置X5で反射されて拡散光となる。

在从导光构件 65出射而被扩散板 67扩散并直接向读取原稿 G传播的光 L之中,以比光 LG(参见图 9A)的漫射角更大的漫射角出射的光 LH在沿箭头 X的方向朝比读取位置 X2(参见图 9A)更远离光轴 LT的一侧偏移的读取位置 X5处被反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集

また、導部材65から出射されると共に拡散板67で拡散されて読取原稿Gに直接向かうLのうち、LE(図9(b)参照)の拡散角よりも大きい拡散角度で出射されたLKは、矢印X方向で反射位置X2(図9(b)参照)よりも外側にずれた反射位置X5で反射されて拡散光となる。

此外,在从导光构件 65出射而被扩散板 67扩散且直接朝读取原稿 G传播的光 L之中,以比光 LE(参见图 9B)的漫射角大的漫射角出射的光 LK在读取方向 X上比读取位置 X2(参见图 9B)更向外偏移的读取位置 X5处被反射并成为漫射光。 - 中国語 特許翻訳例文集





   

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