「掩模」に関連した中国語例文の一覧 -中国語例文検索

更具体地，当形成像素 20A时，采用一个掩模，而当形成像素 20B时，采用另一个掩模。

より具体的には、画素20Aを生成する場合には、一方のマスクが用いられ、画素20Bを生成する場合には、他方のマスクが用いられる。 - 中国語 特許翻訳例文集

在如图 16所示的情况中，当形成像素 20A和像素 20B时，采用两个掩模。

なお、図16に示す場合において、画素20A及び画素20Bを生成する際には、2つのマスクが用いられる。 - 中国語 特許翻訳例文集

根据本实施方式，反变换函数 FIT(11)、FIT(12)、...、以及 FIT(16)的有网点的部分代表可被应用至系数的各自的掩模 (mask)。

この実施例によれば、逆変換ファンクションFIT(11)、FIT(12)、・・・、FIT(16)の点付けの部分は、係数に適用できる各々のマスクを表す。 - 中国語 特許翻訳例文集

请注意，应用反变换函数 FIT(31)、FIT(32)、...、以及 FIT(35)的系数的掩模代表不同种类的低通滤波操作。

なお、逆変換ファンクションFIT(31)、FIT(32)、・・・、FIT(35)の係数に適用されるマスクは、異なる種類のローパスフィルタリング作業を表す。 - 中国語 特許翻訳例文集

图 23(a)以及 (b)是用于说明在本发明的第 7实施例 (模糊处理例 7B)中，模糊处理部在某一位置上生成的掩模过滤器以及校正模糊过滤器的图。

【図23】第7−2実施例において、ぼかし処理部69が位置Aで生成するマスクフィルタ及び補正ぼかしフィルタを説明するための図である。 - 中国語 特許翻訳例文集

图 24(a)以及 (b)是用于说明在本发明的第 7实施例 (模糊处理例 7B)中，模糊处理部在其他的位置上生成的掩模过滤器以及校正模糊过滤器的图。

【図24】第7−2実施例において、ぼかし処理部69が位置Bで生成するマスクフィルタ及び補正ぼかしフィルタを説明するための図である。 - 中国語 特許翻訳例文集

图 26(a)以及 (b)是用于说明在本发明的第 7实施例 (模糊处理例 7C)中，模糊处理部在某一位置上生成的掩模过滤器以及校正模糊过滤器的图。

【図26】第7−3実施例において、ぼかし処理部69が位置Cで生成するマスクフィルタ及び補正ぼかしフィルタを説明するための図である。 - 中国語 特許翻訳例文集

在应用各自的掩模之后，有网点的部分之中的系数被保持以用于反变换单元 120的低复杂度反变换的计算，以及无网点的部分之中的系数被设置为零。

各々のマスクを適用した後に、点付けの部分の係数は、更なる、逆変換ユニット120の低複雑度の逆変換の計算のために残され、また、点付けない部分の係数は、ゼロにセットされる。 - 中国語 特許翻訳例文集

根据本实施方式，反变换函数 FIT(31)、FIT(32)、...、以及 FIT(35)中的有网点的部分及 /或阴影部分中的系数显示可应用至此系数的掩模的多个集合。

この実施例によれば、逆変換ファンクションFIT(31)、FIT(32)、・・・、FIT(35)の点付け及び／又は影付けの部分の係数は、係数に適用できる、幾つかの、マスクのセットを示す。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外，在此说明了作为大容量存储装置具备 HDD37的例子，但也可代替 HDD37，使用内置的内存，或可装卸的光盘 (CD-ROM(CompactDisc-Read Only Memory)/MO(Magnetic Optical Disc/MD(Mini Disc)/DVD(Digital Versatile Disc))、IC卡 (包括存储卡 )、光卡、掩模 ROM、EPROM(Erasable Programmable ROM)、EEPROM(Electronically EPROM)等。

なお、ここでは、大容量記憶装置としてHDD37を備える例を説明したが、HDD37に代えて、内蔵のフラッシュメモリであってもよいし、着脱可能な光ディスク（CD−ROM（Compact Disc−Read Only Memory）／MO（Magnetic Optical Disc／MD（Mini Disc）／DVD（Digital Versatile Disc））、ICカード（メモリカードを含む）、光カード、マスクROM、EPROM（Erasable Programmable ROM）、EEPROM（Electronically EPROM）などを用いてもよい。 - 中国語 特許翻訳例文集