「Ga」に関連した中国語例文の一覧 -中国語例文検索

如果序列 a和 b为格雷序列 (Ga，Gb)，并且如果 Gm为 [Gb Ga]，[Gb -Ga]，[Ga Gb]或是 [Ga -Gb]，那么 n可以为格雷序列 (Gn)并且可以分别是 [Gb -Ga]，[Gb Ga]，[Ga -Gb]或是 [Ga Gb]。

シーケンスaおよびbがゴーレイシーケンス（Ga，Gb）であり、Gmが［Gb Ga］［Gb −Ga］［Ga Gb］または［Ga −Gb］である場合には、nがゴーレイシーケンス（Gn）であり、それぞれ、［Gb −Ga］［Gb Ga］［Ga −Gb］または［Ga Gb］であってよい。 - 中国語 特許翻訳例文集

如果序列 a和 b为格雷序列(Ga，Gb)，那么可以使用双倍长度的格雷序列Gm并且Gm可以是下述中的任意： [Gb Ga]，[Gb -Ga]，[Ga Gb]或是 [Ga -Gb]。

シーケンスaおよびbがゴーレイシーケンス（Ga，Gb）である場合には、二倍の長さのゴーレイシーケンスGmを利用することができ、Gmは、［Gb Ga］［Gb −Ga］［Ga Gb］または［Ga −Gb］のいずれの組み合わせであってもよい。 - 中国語 特許翻訳例文集

相反，序列 G’a与序列 Ga无关。

シーケンスG'aは、シーケンスGaと無関係である。 - 中国語 特許翻訳例文集

较之于在图8A中所使用的格雷序列 Ga和 Gb，序列 G’a和 G’b与 Ga和 Gb既不相同也不互补。

図8Aで利用されているゴーレイシーケンスGaおよびGbと比べて、シーケンスG'aおよびG'bは、GaおよびGbと同一でも、GaおよびGbを補完するものでもない。 - 中国語 特許翻訳例文集

较之于在图 8A的格式中所使用的格雷序列 Ga，序列 G’a与 Ga既不相同也不互补。

図8Aのフォーマットで利用されているゴーレイシーケンスGaと比べると、シーケンスG'aは、Gaと同一でもこれを補完するものでもない。 - 中国語 特許翻訳例文集

STF 580包括多个序列 a，其可以为格雷序列 (Ga)。

STF580は、ゴーレイシーケンス（Ga）であってよい複数のシーケンスaを含んでよい。 - 中国語 特許翻訳例文集

在图 8A中，STF包括多个序列 a，其可以是格雷序列 (Ga)。

図8Aでは、STFはゴーレイシーケンス（Ga）であってよい複数のシーケンスaを含んでよい。 - 中国語 特許翻訳例文集

相反，序列 G’a和 G’b中的每一个与序列 Ga或 Gb无关。

シーケンスG'aおよびG'bは、シーケンスGaおよびGbはそれぞれ無関係である。 - 中国語 特許翻訳例文集

相关器740可以包括 Ga/Gb相关器 744，其生成所接收到的信号和序列 Ga之间的互相关 (Xa)以及生成所接收到的信号和序列 Gb之间的互相关 (Xb)。

相関器740は、受信した信号とシーケンスGaとの間の相互関連性（Xa）を生成して、受信した信号とシーケンスGbとの間の相互関連性（Xb）を生成するGa／Gb相関器744を含んでよい。 - 中国語 特許翻訳例文集

在图 20的实施方式中，Ga/Gb相关器 744还可以用于检测与序列 a和序列 b的互相关。

図20の実施形態では、Ga／Gb相関器744を、シーケンスaおよびbとの相互関連性を検出する用途にも用いることができる。 - 中国語 特許翻訳例文集

在另一个示例中，格式 1320中的 SFD中的第二 -b序列 (即与 CEF相邻的序列 -b)可以由 a(或 Ga)来代替。

別の例では、フォーマット1320のSFDの第2の−bシーケンス（つまり、CEFの隣のシーケンス−b）が、a（またはGa）と置き換えられてよい。 - 中国語 特許翻訳例文集

在另一个示例中，格式 1330中的 SFD中的 b序列 (即与 CEF相邻的序列 b)可以由 -a(或 -Ga)来代替。

別の例では、フォーマット1330のSFDのbシーケンス（つまり、CEFの隣のシーケンスb）が、−a（または−Ga）と置き換えられてよい。 - 中国語 特許翻訳例文集

例如，可以使用图 4所示的画面 GA，将特定的服务器指定为协作装置 50并进行登记。

たとえば、図4に示すような画面GAを用いて、特定のサーバを連携装置50として指定して登録することが可能である。 - 中国語 特許翻訳例文集

画面生成单元 14是生成触摸屏 63上显示的后述的各种画面 (GA、GB等 )的处理单元。

画面生成部14は、タッチスクリーン63に表示される後述の各種の画面（GA，GB等）を生成する処理部である。 - 中国語 特許翻訳例文集

此时，利用来自第一托架 18的发光元件 61的光 L照射读取原稿 G的待读取表面 GA(参见图 7)，被待读取表面 GA反射的光 L被引导至第二托架 22，并且光 L以第二镜 45A和第三镜 45B的顺序被反射并被引导至成像用透镜 24。

このとき、第1キャリッジ18の発光素子61から読取原稿Gの被読取面GA（図7参照）に光Lが照射されると共に、被読取面GAで反射された光Lが第2キャリッジ22に導かれ、光Lは、第2ミラー45A、第3ミラー45Bの順に反射されて結像用レンズ24に導かれる。 - 中国語 特許翻訳例文集

因而，从发光元件 61朝读取原稿 G发射的光相对于读取原稿 G的待读取表面 GA从预定倾斜方向入射并散射，从而与光相对于读取原稿 G的待读取表面 GA垂直入射相比，读取原稿 G的背景 (白色 )上的镜面反射得以抑制，从而图像的亮度差 (对比度 )的下降得以抑制。

これにより、発光素子61から読取原稿Gに向けて出射された光は、読取原稿Gの被読取面GAに対して予め定められた傾斜方向から入射して散乱されるため、読取原稿Gの被読取面GAに対して垂直に光を入射した場合に比べて、読取原稿Gの下地（白）での正反射が抑えられ、画像の輝度差（コントラスト）の低下が抑えられている。 - 中国語 特許翻訳例文集

由于第二托架 22的运动距离是第一托架 18的运动距离的一半，因而光 L从读取原稿 G的待读取表面 GA至光电转换元件 26的光路长度不变。

なお、第2キャリッジ22の移動距離が第1キャリッジ18の移動距離の半分となっていることで、読取原稿Gの被読取面GAから光電変換素子26までの光Lの光路長は変化しない。 - 中国語 特許翻訳例文集

在图 6中，光轴 LT对应于将从读取原稿 G的待读取表面 GA反射的光引导至成像部件 20的光路的光轴的实施例。

なお、図6において、光軸LTが、読取原稿Gの被読取面GAからの反射光を結像部20に導く光路の光軸の一例に相当する。 - 中国語 特許翻訳例文集

光 LA和光 LB分别入射在第一稿台玻璃 43A上并被折射，使得读取原稿G的待读取表面 GA的读取位置 X0被其照射。

光LA及び光LBは、それぞれ第1プラテンガラス43Aに入射して屈折すると共に読取原稿Gの被読取面GAにおける読み取り位置X0に照射される。 - 中国語 特許翻訳例文集

因而，抑制了读取原稿 G的待读取表面GA再次被光 LE照射的情形，从而从读取原稿 G上的图像反射的光 (漫射光 )的光强波动变小。

これにより、光LEが読取原稿Gの被読取面GAに再び照射されることが抑えられ、読取原稿G上の画像からの反射光（拡散光）の強度の変動が小さくなる。 - 中国語 特許翻訳例文集

由于序列 G’a与在 CEF中使用的序列 Ga和 Gb无关，分组 1200和 1210包括对应于相应的 CEF的 CEF符号 u或是 v的最后一部分的循环前缀字段 1204。

シーケンスG'aはCEFで利用されるシーケンスGaおよびGbと無関係なので、パケット1200および1210は、各CEFのCEFシンボルuまたはvの最終部分に対応する巡回プレフィックスフィールド1204を含む。 - 中国語 特許翻訳例文集

在慢扫描方向上以预定距离远离扩散板 67的位置，放置有反射板 79，该反射板 79反射从扩散板 67出射的光并将该光引导至读取原稿 G的读取位置 (待读取表面 GA)。

一方、拡散板67から副走査方向へ予め定められた距離だけ離間した位置には、拡散板67から出射された光を反射して読取原稿Gの読取位置（被読取面GA）まで導く反射板79が配置されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

接着，照射读取原稿G所用的光 L被读取原稿 G的待读取表面 GA反射，之后被第一镜 75反射，并且如图 3中所示从第二托架 22穿过成像透镜 24传播，并由光电转换 26成像，借此执行图像信息的读取。

そして、読取原稿Gに照射された光Lは、読取原稿Gの被読取面GAで反射された後に第1ミラー75で反射されて、図3に示すように、第2キャリッジ22から結像用レンズ24を経て光電変換素子26で結像され、画像情報の読み取りが行われる。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外，读取原稿 G的待读取表面 GA被从扩散板 67出射并被反射板 79反射的光 LF照射，并且光 LF在沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝反射板 79侧偏移的反射位置 X1处被反射并成为漫射光。

また、拡散板67から出射され反射板79で反射された光LFは、読取原稿Gの被読取面GAに照射されると共に、矢印X方向で読み取り位置X0から反射板79側にずれた反射位置X1で反射されて拡散光となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外，读取原稿 G的读取表面 GA被从扩散板 67出射并被反射板 79反射的光 LD照射，并且光 LD在沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝反射板 79侧偏移的反射位置 X1处被反射并成为漫射光。

また、拡散板67から出射されて反射板79で反射された光LDは、読取原稿Gの被読取面GAに照射されると共に、矢印X方向で読み取り位置X0から反射板79側にずれた反射位置X1で反射されて拡散光となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

第一托架 18停止在第二稿台玻璃 43B下方 (读取原稿 G的输送表面下方 )，这作为初始位置，或者沿着读取原稿 G的待读取表面 GA(参见图 7)横过整个第一稿台玻璃 43A运动，利用由发光元件 61发射的光 L照射读取原稿 G，并将由读取原稿 G反射的光 L引导至第二托架 22。

第1キャリッジ18は、初期位置である第2プラテンガラス43Bの下（読取原稿Gの搬送面の下）に停止し、又は第1プラテンガラス43Aの全体に亘って読取原稿Gの被読取面GA（図7参照）に沿って移動しながら、発光素子61の発光により読取原稿Gに光Lを照射して、読取原稿Gで反射された光Lを第2キャリッジ22に導く。 - 中国語 特許翻訳例文集

这里，假设 LT表示由读取原稿 G的待读取表面 GA反射并朝第一镜 75传播的光 L的光轴，由扩散板 67扩散的一部分光 L穿过第二稿台玻璃 43B，使得利用该光从光轴 LT的一侧照射读取原稿 G，并且光 L的其余部分被反射板 79反射，之后穿过第二稿台玻璃 43B，使得利用该光从光轴 LT的另一侧照射读取原稿 G。

ここで、読取原稿Gの被読取面GAで反射され第1ミラー75に向かう光Lの光軸を光軸LTとすると、拡散板67で拡散された光Lの一部は、第2プラテンガラス43Bを通って光軸LTの一方側から読取原稿Gに照射され、光Lの残りは、反射板79で反射された後に第2プラテンガラス43Bを通って光軸LTの他方側から読取原稿Gに照射される。 - 中国語 特許翻訳例文集

如图 7A中所示，导光构件 65被放置成使得从光入射表面 65B至光出射表面 65A的上表面 65C的一部分相对于位于导光构件 65上方的第一保持件 51(上壁 51A)朝光轴 LT伸出，并使得从待读取表面 GA反射的光入射在导光构件上并透射过该导光构件。

一方、図7（a）に示すように、導光部材65は、光入射面65Bから光出射面65Aまでの上側面65Cの一部が、導光部材65の上方にある第1ホルダー51（上壁51A）に対して光軸LT側に突出しており、被読取面GAからの反射光が入射すると共に透過するように配置されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

在图 8中，示出了第一托架 18在慢扫描方向上的剖视图，以及通过仿真计算出的以读取原稿 G的读取位置 X0为中心照射读取原稿 G的待读取表面 GA的光 L(包括 LA和LB)在慢扫描方向上的相对光强变化的计算结果曲线。

図8には、第1キャリッジ18の副走査方向の断面図、及び読取原稿Gの読み取り位置X0を中心として、読取原稿Gの被読取面GAに照射される光L（LA、LB含む）の副走査方向における相対強度の変化をシミュレーションにより算出した結果のグラフが示されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外，在当前示例性实施方式的第一托架 18中，由于使第一保持件 51的端部 51C的位置远离光轴 LT移动，因而再次照射读取原稿 G的待读取表面 GA的光量减少，从而不再需要为抑制光反射而对第一保持件 51的上表面进行表面处理，从而与使用进行了表面处理的保持件时相比，构造变得廉价。

また、本実施形態の第1キャリッジ18では、第1ホルダー51の端部51Cの位置を光軸LTから離すことだけで読取原稿Gの被読取面GAへの再度の照射光が低減するので、第1ホルダー51の上面に光の反射を抑える表面処理を施す必要が無くなり、表面処理を行った物を用いる場合に比べて、安価な構成となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

如图 1中所示，在根据本发明示例性实施方式的图像形成装置 10的装置主体 10A的上部，设有一次一张地自动输送多个读取原稿 G的自动原稿供给装置 12、供放置其中一个读取原稿 G的稿台玻璃 43、以及原稿读取装置 14，该原稿读取装置 14作为读取由自动原稿供给装置 12供给的读取原稿 G或放置在稿台玻璃 43上的读取原稿 G的读取部分即待读取表面 GA(参见图 6和图 7)的图像读取装置的实施例。

図1に示すように、本実施形態に係る画像形成装置10の装置本体10Aの上部には、複数枚の読取原稿Gを1枚ずつ自動で搬送する自動原稿搬送装置12と、1枚の読取原稿Gが載せられるプラテンガラス43と、自動原稿搬送装置12によって搬送され又はプラテンガラス43に載せられた読取原稿Gの被読取面GA（図6、7参照）を読み取る画像読取装置の一例としての原稿読取装置14とが設けられている。 - 中国語 特許翻訳例文集