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「扩散」を含む例文一覧

該当件数 : 128



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在 CDMA实施例中的时序同步模块 520可以利用已知的去扩散技术实现。

CDMA実施形態におけるタイミング同期モジュール520は、公知の逆拡散技術を使用して与えられることができる。 - 中国語 特許翻訳例文集

一些已知的诸如误差扩散法或抖动法的量化方法适用于本实施例。

量子化処理の方法にはいくつかあるが、公知の誤差拡散法やディザ法などを適用することが出来る。 - 中国語 特許翻訳例文集

四个传送栅极 207到 210对称地布置在浮动扩散部 203周围。

4つの転送ゲート207乃至210は、フローティング・ディフュージョン203に関して対称的に配置されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

四个传送栅极 307到 310对称地布置在浮动扩散部 303周围。

4つの転送ゲート307乃至310は、フローティング・ディフュージョン303に関して対称的に配置されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

此确实引入可通过使得浮动扩散部导线 315较宽而减轻的光学左右不对称性。

これは、光学的な左右非対称を取り込んでしまうが、フローティング・ディフュージョン線315の幅を広くすることによって軽減されうる。 - 中国語 特許翻訳例文集

晶体管 202缓冲浮动扩散部 204与输出列信号导线之间的电压。

トランジスタ202は、フローティング・ディフュージョン204と出力列信号線との間の電圧をバッファリングする。 - 中国語 特許翻訳例文集

晶体管 302缓冲浮动扩散部 304与输出列信号导线之间的电压。

トランジスタ302は、フローティング・ディフュージョン304と出力列信号線との間の電圧をバッファリングする。 - 中国語 特許翻訳例文集

晶体管 102缓冲浮动扩散部 104与输出列信号导线之间的电压。

トランジスタ102は、フローティング・ディフュージョン104と出力列信号線との間の電圧をバッファリングする。 - 中国語 特許翻訳例文集

从而,第二图线 1302由于较长的多路径延迟扩散而在数目增加的频率零点之间提供了较陡的梯度。

従って、第2のプロット1302は、長いマルチパスの遅延発散によって、数が増加された周波数・ナル(ゼロ)の間で、急勾配となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

传送的信号电荷在浮置扩散 22处被转换为电压信号,并输出到放大晶体管 Tr3的栅极。

FD22は転送された信号電荷を電圧信号に変換して増幅トランジスタTr3のゲートに出力する。 - 中国語 特許翻訳例文集


从浮置扩散 22输出的电压信号通过放大晶体管 TR3放大,并输出到列信号线 VSL。

FD22から出力される電圧信号は増幅トランジスタTr3により増幅され、列信号線VSLに出力される。 - 中国語 特許翻訳例文集

图 15A和 15B是用于说明图 13所示的、能进行点布置确定的误差扩散处理的流程图。

【図15】図15は、図13の誤差拡散処理によるドット数決定処理を説明するためのフローチャートである。 - 中国語 特許翻訳例文集

在步骤 S4中,单元像素 131的目标行使浮置扩散区 145复位,并读出复位电平(reset level)。

ステップS4において、注目行の単位画素131は、浮遊拡散領域145をリセットし、リセットレベルを読み出す。 - 中国語 特許翻訳例文集

在步骤 S7中,单元像素 131的目标行使浮置扩散区 145复位,释放第一信号电荷,并读出复位电平。

ステップS7において、注目行の単位画素131は、浮遊拡散領域145をリセットし、第1信号電荷を排出し、リセットレベルを読み出す。 - 中国語 特許翻訳例文集

在步骤 S8中,单元像素 131的目标行将第二信号电荷转移至浮置扩散区 145。

ステップS8において、注目行の単位画素131は、第2信号電荷を浮遊拡散領域145に転送する。 - 中国語 特許翻訳例文集

在步骤 S10中,单元像素 131的目标行使浮置扩散区 145复位,并释放第二信号电荷。

ステップS10において、注目行の単位画素131は、浮遊拡散領域145をリセットし、第2信号電荷を排出する。 - 中国語 特許翻訳例文集

在步骤 S53中,单元像素 131的目标行将先前帧的信号电荷转移到浮置扩散区145。

ステップS53において、注目行の単位画素131は、前のフレームの信号電荷を浮遊拡散領域145に転送する。 - 中国語 特許翻訳例文集

在步骤 S55中,单元像素 131的目标行使浮置扩散区 145复位,并释放先前帧的信号电荷。

ステップS55において、注目行の単位画素131は、浮遊拡散領域145をリセットし、前のフレームの信号電荷を排出する。 - 中国語 特許翻訳例文集

在步骤 S58中,将多余电荷转移到浮置扩散区 145,且同时将所有像素的当前帧的信号电荷转移至第二 CCD 143。

ステップS58において、全画素同時に、不要電荷を浮遊拡散領域145に転送し、現在のフレームの信号電荷を第2CCD143に転送する。 - 中国語 特許翻訳例文集

在慢扫描方向上以预定距离远离扩散板 67的位置,放置有反射板 79,该反射板 79反射从扩散板 67出射的光并将该光引导至读取原稿 G的读取位置 (待读取表面 GA)。

一方、拡散板67から副走査方向へ予め定められた距離だけ離間した位置には、拡散板67から出射された光を反射して読取原稿Gの読取位置(被読取面GA)まで導く反射板79が配置されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

接下来,从导光构件 65的光出射表面 65A出射的光 L由扩散板 67扩散,使得一部分光 L作为光 LA朝读取原稿 G传播,并使得光 L的其余部分作为光 LB朝反射板 79传播并被反射板 79反射。

続いて、導光部材65の光出射面65Aから出射された光Lは、拡散板67で拡散され、一部が光LAとして読取原稿Gに向かって進むと共に、残りが光LBとして反射板79に向かって進み、反射板79で反射される。 - 中国語 特許翻訳例文集

从导光构件 202出射并被扩散板 67扩散而直接朝读取原稿 G传播的一部分光L(例如光 LG)传播至沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝导光构件 202侧偏移的反射位置 X2,并在反射位置 X2处被反射并成为漫射光。

一方、導光部材202から出射されると共に拡散板67で拡散され、読取原稿Gに直接向かう光Lの一部は、光LGのように、矢印X方向で読み取り位置X0から導光部材202側にずれた反射位置X2に向かうと共に、反射位置X2で反射されて拡散光となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

从导光构件 65出射并被扩散板 67扩散而直接朝读取原稿 G传播的一部分光 L(例如光 LE)在沿箭头 X的方向从读取位置 X0朝导光构件 65偏移的反射位置 X2处被反射并成为漫射光。

一方、導光部材65から出射されると共に、拡散板67で拡散されて読取原稿Gに直接向かう光Lの一部は、光LEのように、矢印X方向で読み取り位置X0から導光部材65側にずれた反射位置X2で反射されて拡散光となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外,由于本实施例中相邻像素的浮动扩散部 (FD)37的暗电流是彼此接近的,因而通过信号处理也能够减少浮动扩散部 (FD)37的暗电流。

さらに、本実施の形態においては、隣接画素間ではフローティングディフージョン部(FD)37に付加される暗電流も近いので、同じく信号処理によりフローティングディフージョン部(FD)37の暗電流の低減を図ることができる。 - 中国語 特許翻訳例文集

在信号电荷被读出到浮动扩散部 FD1、FD1′中之后,如果水平控制线 L3、L4的复位线成为高电平,则复位晶体管 2、2′导通,将读出到浮动扩散部 FD1、FD1′中的信号电荷排出。

フローティングディフージョンFD1、FD1´に信号電荷が読み出された後、水平制御線L3、L4のリセット線がハイレベルになると、リセットトランジスタ2、2´がオンし、フローティングディフージョンFD1、FD1´に読み出された信号電荷が排出される。 - 中国語 特許翻訳例文集

并且,用于垂直信号线 Vsig1a的配线 H1经由通孔 B1连接在放大晶体管 4的源极侧的扩散层 DF1上,用于垂直信号线 Vsig1b的配线 H1经由通孔 B1连接在放大晶体管 4′的源极侧的扩散层 DF1上。

そして、垂直信号線Vsig1aに用いられている配線H1は、ビアB1を介してアンプトランジスタ4のソース側の拡散層DF1に接続され、垂直信号線Vsig1bに用いられている配線H1は、ビアB1を介してアンプトランジスタ4´のソース側の拡散層DF1に接続されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外,通过将用于垂直信号线Vsig1a、Vsig1b的配线H1分别连接在放大晶体管4、4′的源极侧的扩散层 DF1上,能够使浮动扩散部 FD1、FD1′与垂直信号线 Vsig1b、Vsig1a之间的距离分别变大。

また、垂直信号線Vsig1a、Vsig1bに用いられている配線H1をアンプトランジスタ4、4´のソース側の拡散層DF1にそれぞれ接続することにより、フローティングディフージョンFD1、FD1´と垂直信号線Vsig1b、Vsig1aとの間の距離をそれぞれ大きくすることができる。 - 中国語 特許翻訳例文集

这里,假设 LT表示由读取原稿 G的待读取表面 GA反射并朝第一镜 75传播的光 L的光轴,由扩散板 67扩散的一部分光 L穿过第二稿台玻璃 43B,使得利用该光从光轴 LT的一侧照射读取原稿 G,并且光 L的其余部分被反射板 79反射,之后穿过第二稿台玻璃 43B,使得利用该光从光轴 LT的另一侧照射读取原稿 G。

ここで、読取原稿Gの被読取面GAで反射され第1ミラー75に向かう光Lの光軸を光軸LTとすると、拡散板67で拡散された光Lの一部は、第2プラテンガラス43Bを通って光軸LTの一方側から読取原稿Gに照射され、光Lの残りは、反射板79で反射された後に第2プラテンガラス43Bを通って光軸LTの他方側から読取原稿Gに照射される。 - 中国語 特許翻訳例文集

在从导光构件 65出射而被扩散板 67扩散并直接向读取原稿 G传播的光 L之中,以比光 LG(参见图 9A)的漫射角更大的漫射角出射的光 LH在沿箭头 X的方向朝比读取位置 X2(参见图 9A)更远离光轴 LT的一侧偏移的读取位置 X5处被反射并成为漫射光。

一方、導光部材65から出射されると共に拡散板67で拡散されて読取原稿Gに直接向かう光Lのうち、光LG(図9(a)参照)の拡散角よりも大きい拡散角度で出射された光LHは、矢印X方向で反射位置X2(図9(a)参照)よりも光軸LTから離れる側にずれた反射位置X5で反射されて拡散光となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外,在从导光构件 65出射而被扩散板 67扩散且直接朝读取原稿 G传播的光 L之中,以比光 LE(参见图 9B)的漫射角大的漫射角出射的光 LK在读取方向 X上比读取位置 X2(参见图 9B)更向外偏移的读取位置 X5处被反射并成为漫射光。

また、導光部材65から出射されると共に拡散板67で拡散されて読取原稿Gに直接向かう光Lのうち、光LE(図9(b)参照)の拡散角よりも大きい拡散角度で出射された光LKは、矢印X方向で反射位置X2(図9(b)参照)よりも外側にずれた反射位置X5で反射されて拡散光となる。 - 中国語 特許翻訳例文集

另外,在导光构件 65和扩散板 67的下侧,布置有将由原稿 G反射的光 L引导至第二托架 22的第二镜 45A(参见图 3)的第一镜 75。

また、導光部材65及び拡散板67の下方側には、原稿Gで反射された光Lを第2キャリッジ22の第2ミラー45A(図3参照)に導く第1ミラー75が設けられている。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外,导光构件 65被构造成至少沿快扫描方向扩散定向光并将从发光元件 61发射的光引导至尽可能靠近读取原稿 G(参见图 1)的位置。

また、導光部材65は、指向性を有する光を少なくとも主走査方向に拡散させると共に、発光素子61から出射された光を読取原稿G(図1参照)の読取位置近くまで導くようになっている。 - 中国語 特許翻訳例文集

此外,在导光构件 65与扩散板 67的下侧设有第一镜 75,该第一镜将由读取原稿 G反射的光引导至第二托架 22的第二镜 45A(参见图 3)。

また、導光部材65及び拡散板67よりも下方側には、読取原稿Gで反射された光を第2キャリッジ22の第2ミラー45A(図3参照)に導く第1ミラー75が設けられている。 - 中国語 特許翻訳例文集

接着,在读取原稿 G的读取位置 X0处被反射并成为扩散光的光中,沿着光轴 LT传播的光 L从读取原稿 G的表面朝第一镜 75传播并被第一镜 75反射。

続いて、読取原稿Gの読み取り位置X0で反射され拡散光となった光Lのうち、光軸LTに沿って進む光Lは、読取原稿Gの表面から第1ミラー75に向かい、第1ミラー75で反射される。 - 中国語 特許翻訳例文集

在获得量化值后,分配量化部 303分别针对青色和品红色获得与所获得量化值对应的误差,并将所述误差扩散到周边像素(S405)。

量子化値を求めた後は、シアン及びマゼンタのそれぞれに対して、求めた量子化値に対する誤差を求め、周辺画素へ拡散する(S405)。 - 中国語 特許翻訳例文集

在获得量化值后,分配量化部 503分别针对第一道和第二道获得与所获得量化值对应的误差,并将所述误差扩散到周边像素(S405)。

量子化値を求めた後は、1及び2パス目のそれぞれに対し、求めた量子化値に対する誤差を求め、周辺画素へ拡散する(S405)。 - 中国語 特許翻訳例文集

在获得量化值后,分配量化部 503分别针对第一道和第二道获得与所获得量化值对应的误差,并将所述误差扩散到周边像素(S604)。

量子化値を求めた後は、1及び2パス目のそれぞれに対し、求めた量子化値に対する誤差を求め、周辺画素へ拡散する(S604)。 - 中国語 特許翻訳例文集

在获得量化值后,分配量化部 1205在针对青色和品红色的第一道和第二道中获得与所获得量化值对应的误差,并将所述误差扩散到周边像素(S405)。

量子化値を求めた後は、シアン及びマゼンタの1及び2パス目に対し、求めた量子化値に対する誤差を求め、周辺画素へ拡散する(S405)。 - 中国語 特許翻訳例文集

独立量化部 1003使用通常使用的传统误差扩散方法,来对转换成 CMYK分量的图像的青色和品红色中的各颜色独立地进行量化。

独立量子化部1003では、CMYK成分に変換された画像のシアン・マゼンタに対して、一般的に用いられる従来の誤差拡散法を用いて色毎に独立して量子化を行う。 - 中国語 特許翻訳例文集

独立量化部 1004使用通常使用的传统误差扩散方法来对除青色和品红色以外的颜色 (即黄色和黑色 )中的各颜色独立地进行量化。

シアンとマゼンタ以外の色、すなわち、イエロー及びブラックに関しては、独立量子化部1004で一般的に用いられる従来の誤差拡散法を用いて色毎に独立して量子化を行う。 - 中国語 特許翻訳例文集

传送晶体管 (下文中简称为传送 Tr)302a至 302c将累积在 PD303a至 PD 303c上的光信号电荷传送到浮动扩散 (下文中简称为 FD)304a至 304c,并且 PD 303a至 PD 303c是光电转换元件。

転送トランジスタ(以下転送Trと呼ぶ)302a〜302c はフォトダイオードに蓄積された光信号電荷をフローティングディフフュージョンに転送し、フォトダオード(以下、PD)303a〜303cは光電変換素子である。 - 中国語 特許翻訳例文集

浮动扩散部 (FD)37利用贯穿遮光膜 46的接触通道 52与形成在上层处的多层布线层 51的所需布线 49连接。

フローティングディフージョン部(FD)37は、遮光膜46を貫通するコンタクトビア52を介して上層に形成された多層配線層51の所要の配線49に接続される。 - 中国語 特許翻訳例文集

此后,如第一实施例的前述说明中所述的那样逐个像素行地接通读晶体管 Tr12,使普通像素 22的合并信号电荷 eS1+eM1+eM2被读出到浮动扩散部 (FD)37。

その後、第1実施の形態で説明したと同様に、1画素行毎に読み出しトランジスタTr12がオン状態となり、通常画素22の合算信号電荷(eS1+eM1+eM2)がフローティングディフージョン部(FD)37へ読み出される。 - 中国語 特許翻訳例文集

除了例如绘图仪等被称为引擎部件的部件,引擎单元 60还包括执行误差扩散、γ变换等的图像处理部件。

なお、このエンジン部60には、プロッタなどのいわゆるエンジン部分に加えて、誤差拡散やガンマ変換などの画像処理部分が含まれる。 - 中国語 特許翻訳例文集

除了例如绘图仪等被称为引擎部件的部件,引擎单元 60还包括执行误差扩散、γ转换等的图像处理部件

なお、このエンジン部60には、プロッタなどのいわゆるエンジン部分に加えて、誤差拡散やガンマ変換などの画像処理部分が含まれる。 - 中国語 特許翻訳例文集

复位晶体管 36使其源极连接到浮动扩散 38,且使其漏极连接到复位电源 Vrd(通常也用作模拟电源 Vdd= AVDD)。

リセットトランジスタ36は、ソースがフローティングディフュージョン38に、ドレインがリセット電源Vrd(通常はアナログ用の電源Vdd=AVDD)と共通にする)にそれぞれ接続される。 - 中国語 特許翻訳例文集

此时,将浮动扩散部 FD1、FD1′的复位电压分别经由垂直信号线 Vsig1a、Vsig1b输出,将该复位电压通过信号处理电路 12保持。

この時、フローティングディフージョンFD1、FD1´のリセット電圧が垂直信号線Vsig1a、Vsig1bをそれぞれ介して出力され、このリセット電圧が信号処理回路12にて保持される。 - 中国語 特許翻訳例文集

接着,将在浮动扩散部 FD1、FD1′中变化的信号电压 (复位电压+信号电压 )分别经由垂直信号线 Vsig1a、Vsig1b输出给信号处理电路 12。

そして、フローティングディフージョンFD1、FD1´で変化した信号電圧(リセット電圧+信号電圧)が垂直信号線Vsig1a、Vsig1bをそれぞれ介して信号処理回路12に出力される。 - 中国語 特許翻訳例文集

在图 3中,在列方向上相互邻接的两个像素 PX中,通过在半导体基板 SB1上形成扩散层 DF1而构成光电二极管 PD1、PD1′。

図3において、カラム方向に互いに隣接する2個の画素PXでは、半導体基板SB1に拡散層DF1が形成されることでフォトダイオードPD1、PD1´が構成されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

在图 4中,在沿列方向相互邻接的 3个像素 PX中,通过在半导体基板 SB2上形成扩散层 DF2而构成光电二极管 PD2、PD2′、PD2″。

図4において、カラム方向に互いに隣接する3個の画素PXでは、半導体基板SB2に拡散層DF2が形成されることでフォトダイオードPD2、PD2´、PD2´´が構成されている。 - 中国語 特許翻訳例文集

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