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5. ウェハレベルオプティクス(WLO)技術を用いて前記半導体基板上に作製された光学素子をさらに備える請求項1に記載のカメラアレイ。
5.如权利要求 1所述的相机阵列,所述相机阵列还包括使用晶片级光学 (WLO)技术在所述半导体基底上制作的光学元件。 - 中国語 特許翻訳例文集
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5. ウェハレベルオプティクス(WLO)技術を用いて前記半導体基板上に作製された光学素子をさらに備える請求項1に記載のカメラアレイ。
5.如权利要求 1所述的相机阵列,所述相机阵列还包括使用晶片级光学 (WLO)技术在所述半导体基底上制作的光学元件。 - 中国語 特許翻訳例文集
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